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            電子束曝光系統（EBL)
            
						 
            
							 
            功能：電子裝調
            
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            儀器型號：JC Nabity NPGS V9.1
              
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            發(fā)布人：管理員
              
						 
            
						 
            
							 
            
								 
            
									 
									 詳情 details 
								 
            
								 
            
									 

            利用電子束在光致抗蝕劑表面上掃描，直接產生圖案。
            

            曝光尺寸為幾十納米到微米級可調。
            

            最小線寬：40-50 nm，束斑選擇：納米級是2.0 微米級是2.5 。
            

            面積：200*200 μm，加速電壓：30 kV。
            


            
								 
            
							 
            
							 
            
							 		
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