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															無掩模納米光刻機(jī) 
															
            
								
            無掩模納米光刻機(jī) 
            
								
            
									
            
										
            交易信息：
            
										
            
																						
            完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
            
																					
            
									
            
									
            
										
            技術(shù)領(lǐng)域：
            
										
            
											
            
											
            應(yīng)用領(lǐng)域：
            
											
            最后更新時(shí)間：2022-07-28 15:36
            
										
            
									
            
									
            
										
            所在地：
            
										
            
											
            吉林省 長春市 南關(guān)區(qū)
             
										
            
									
            
									
            
										
            所有者：
            
										
            
											
            管理員
             
										
            
									
            
									
            
										
            聯(lián)系方式：
            
										
            
											
            13756056562
             
										
            
									
            
								
            
							
            
						 
            
						 
						 
            
							 
            
								 
								 
            
									 
            
										 這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。									 
            
									 
            
										 

            這套系統(tǒng)，在計(jì)算機(jī)的控制下可直接在光或熱阻薄膜材料上形成數(shù)十納米級任意形狀的納米構(gòu)造，可獲得導(dǎo)體，半導(dǎo)體和絕緣體的相應(yīng)構(gòu)造，可在制造納米電極和納米電路、生物醫(yī)療納米器件、超大規(guī)模電路的納米特征尺度掩膜等領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。納米無掩模光刻技術(shù)迎合了微納器件制造的發(fā)展趨勢，能克服目前的光刻技術(shù)由于掩模成本不斷增加所帶來的困難。
            


            

									 
            
									 
            
										 阿薩德1111245